

Derzeit verfügt die AWL-Serie Wafer-Handler über zwei Modelle, AWL046 und AWL068, die jeweils für die 4/6-Zoll-Wafer-Erkennung und die 6/8-Zoll-Wafer-Erkennung geeignet sind, deren Anpassungsbereich breit ist und mit einem flexiblen, frei einstellbaren Prüfmodus ausgestattet ist.
AWL SerieVorteile des Wafer-Inspektionssystems
360° Makroprüfung

Das Wafer-Inspektionssystem der AWL-Serie verfügt über einen Makro-Inspektionsarm, der eine 360-Grad-Drehung der Makro-Inspektion der Kristallfläche und der Makro-Inspektion der Rückseite1 ermöglicht, um Wunden und Staub leichter zu erkennen. Über den Betätigungsstab kann der Wafer freiwillig geneigt werden. Kristall Neigungswinkel ≤ 70 °, Kristall Rückseite 1 Neigungswinkel ≤ 90 °, Kristall Rückseite 2 Neigungswinkel ≤ 160 °, mit der Rotationsfunktion, Neigungswinkel, kann die gesamte Wafer positive Gegenseite und Rand visuell überprüfen.
• Mechanische Konstruktion

Die LCD-Anzeige des Wafer-Inspektionssystems bietet dem Bediener eine intuitivere visuelle Erfahrung, kann die aktuelle Inspektion und die Reihenfolge eindeutig anzeigen, und die Debuggerparameter sind auf einen Blick klar.
Die manuelle schnelle Freisetzung von Vakuumträgern mit Wafer-Inspektionssystemen erhöht den Bedienerkomfort und die Arbeitsproduktivität.
Wafer-Fehlerprüfung Anwendungsfälle


AWL SerieTechnische Spezifikationen des Wafer-Inspektionssystems
Modellnummer |
AWL046 |
AWL068 |
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Wafer-Größe (SEMI-Spezifikation) |
150mm/125mm/100mm |
200mm/150mm |
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Wafer Mindestdicke |
150μm |
180μm |
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Typ |
Offene Box (SEMI Stad.25(26)-Slot) |
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Anzahl der Box |
1 Port |
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Moduseinstellungen überprüfen |
Vollständige Prüfung / Ungenartige Prüfung / Parige Prüfung / Manuelle Auswahl |
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Wafer-Scan in der Box |
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Wafer Vorpositionierung |
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Wafer Positionierung |
Berührungslose Positionierung Flachseiter /V-Slot mit 0°, 90°, 180°, 270° Richtungseinstellung |
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Funktionen überprüfen |
Mikrokontrollen |
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Makroprüfung der Kristalle |
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Kristallrückenprüfung 1 |
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Kristallrückenprüfung 2 |
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Anpassung zum Mikroskop |
SOPTOPGoldphasemikroskopMX68R |
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Laststelle |
6 Zoll vierschichtige mechanische bewegliche Plattform, niedrige Position X, Y-Richtung coaxial Einstellung; Wafer-Lager, 360 ° drehbar; Bewegungsweg 228mm (X-Richtung) ×170mm (Y-Richtung) Beobachtungsbereich: |
8 Zoll vierschichtige mechanische bewegliche Plattform, niedrige Position X, Y-Richtung coaxial Einstellung; Wafer-Lager, 360 ° drehbar, Bewegungsweg 280mm (X-Richtung) × 210 mm (Y-Richtung) Beobachtungsbereich: |
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Stromversorgung |
1P/220V/16A |
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Vakuumquelle |
—70KPA |
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